avatar

Intel и TSMC работают над ультрафиолетовой литографией

Опубликовал в блог ТехНовости
Для возрождения старой технологии решено прибегнуть к более жёсткому сабспектру ультрафиолета — т.к. называемому Extreme UV, граничащему с рентгеновским излучением.
И хотя приход EUV-литографии предсказывали ещё в 2007-м году, в этот раз есть более серьёзные основания полагать, что прогнозы относительно 7 и 10нм техпроцессов в 2017-м году вполне могут сбыться.

ТехноВести: Intel и TSMC работают над ультрафиолетовой литографией

В 2012-м году Intel вложила 4 миллиарда долларов в компанию ASML, занимающуюся изучением и разработкой EUV-литографии, год спустя TSMC также вложила в ASML миллиард долларов.

Создание чипов стало игрой, где на счету каждый нанометр и это невозможно без строго и математически точного подхода.

Это богатая на обсуждения тема для индустрии, движущейся в этом направлении; мы начали работать над этим раньше и поэтому у нас больше опыта.

Марк Филлипс, руководитель иненерного подразделения литографии Intel


Источник
0 комментариев RSS
Нет комментариев
Только зарегистрированные и авторизованные пользователи могут оставлять комментарии.